| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Druckform, beim dem auf eine auf einem Träger (1) angeordnete erste strahlungsempfindliche Schicht (4) eine Abdeckschicht (5) aufgetragen wird, die aufgetragene Abdeckschicht (5) entsprechend einem zu druckenden Muster strukturiert wird, um eine Bestrahlungsmaske (5') zu bilden, und die strahlungsempfindliche Schicht (4) bestrahlt und entwickelt wird. Auf diese Weise läßt sich bei der Herstellung von Druckformen eine Bestrahlungsmaske (5') entsprechend einem später zu druckenden Muster sehr genau aufbringen. <IMAGE></p> |
