首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
PLASMA PROCESSING SYSTEM
摘要
申请公布号
JPH1154489(A)
申请公布日期
1999.02.26
申请号
JP19970223123
申请日期
1997.08.04
申请人
TOKYO ELECTRON YAMANASHI KK;RES DEV CORP OF JAPAN
发明人
KAWAMURA GOHEI;HIGUCHI KIMIHIRO
分类号
H05H1/46;C23F4/00;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306
主分类号
H05H1/46
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
光纤编结封闭器
纵横穿越式停车构造(追加一)
旋转式立体停车场
倾斜地板型自走式立体停车场(二)
框型千斤顶防降安全装置
旋转式定量容器
汽车自动排档杆锁之防旋破坏结构
微波炉烤盘
一种电子束曝光系统之库伦效应与邻近效应的消弭方法
检测平面伪币的方法与装置
旋转式施釉及彩釉机器,特别是用于瓷砖者
组合式隔屏(墙)之连结构造改良
高强度屏风连结构造
洗衣板
皮带齿轮式起毛机
玻璃切割装置
双轮机踏车辆前后轮同步传动机构
内六角或内十二角套筒之结构
自动换刀系统之刀库结构改良
环节挠性管用切管器