| 主权项 |
1.一种包含遮光材料及巨分子材料之黑色被覆组成物,其特征在于其遮光材料包含复粒度分布之粒子,其中光敏材料与巨分子材料之重量比为10:90至80:20,其中遮光材料为至少一者选自碳黑,钛黑,金属氧化物,金属碳化物及有机颜料,粒子具粒度约700nm或更少,遮光材料包括一组粒子具常态粒度分布及既定之平均粒度,以及另一或多组粒子各具常态粒度分布且各均粒度系小于该既定平均粒度之値,遮光材料之平均粒径在较大粒子为50-500nm,而较小粒子为较大粒子之1/4-1/50。2.如申请专利范围第1项之组成物,其中遮光材料系由一组具常态粒度分布及既定平均粒度之粒子,以及另一组具常态粒度分布且平均粒度小于该既定平均粒度者。3.如申请专利范围第1项之组成物,其中既定平均粒度为较小平均粒度的4倍或以上。4.如申请专利范围第2项之组成物,其中既定平均粒度约50nm或更大。5.如申请专利范围第2项之组成物,其中具较小平均粒度之分布之粒子的比例为两组粒子总重之1至40重量%。6.如申请专利范围第1或2项之组成物,其中巨分子材料为热固性或光敏材料。7.一种包括巨分子材料及由复粒度分布之粒子所组成之遮光材料之遮光薄膜,其中光敏材料与巨分子材料之重量比为10:90至80:20,其中遮光材料为至少一者选自碳黑,钛黑,金属氧化物,金属碳化物及有机颜料,粒子具粒度约700nm或更少,遮光材料包括一组粒子具常态粒度分布及既定之平均粒度,以及另一或多组粒子各具常态粒度分布且各均粒度系小于该既定平均粒度之値,遮光材料之平均粒径在较大粒子为50-500nm,而较小粒子为较大粒子之1/4-1/50。8.一种形成遮光薄膜的方法,包含以一组成物,其包含一巨分子材料及由复粒度分布之粒子所组成之遮光材料,涂布在一基材上,其中光敏材料与巨子材料之重量比为10:90至80:20,其中遮光材料为至少一者选自碳黑,钛黑,金属氧化物,金属碳化物及有机颜料,粒子具粒度约700nm或更少,遮光材料包括一组粒子具常态粒度分布及既定之平均粒度,以及另一或多组粒子各具常态粒度分布且各均粒度系小于该既定平均粒度之値,遮光材料之平均粒径在较大粒子为50-500nm,而较小粒子为较大粒子之1/4-1/50。9.一种制造滤色镜的方法;包含以一组成物,其包含一巨分子材料及由复粒度分布之粒子所组成之遮光材料,涂布在一基材上形成遮光薄膜,其中光敏材料与巨子材料之重量比为10:90至80:20,其中遮光材料为至少一者选自碳黑,钛黑,金属氧化物,金属碳化物及有机颜料,粒子具粒度约700nm或更少,遮光材料包括一组粒子具常态粒度分布及既定之平均粒度,以及另一或多组粒子各具常态粒度分布且各均粒度系小于该既定平均粒度之値,遮光材料之平均粒径在较大粒子为50-500nm,而较小粒子为较大粒子之1/4-1/50。 |
