发明名称 | 制造低损耗光有源器件的方法 | ||
摘要 | 一种制造光有源器件的方法,所述的光有源器件具有由两个光波导内芯区域构成的光波导;需要非线性作用的非线性内芯区域和不需要非线性作用的线性内芯区域。该方法包括制造由具有非线性作用的光波导内芯区域和不具有非线性作用的光波导内芯区域构成的光波导的光有源器件的方法。光波导仅在光调制或光开关那样的非线性作用发生的区域用非线性光学聚合物形成,而在其余的区域用线性光学聚合物形成,因而使波导的整个波导损失最小化。 | ||
申请公布号 | CN1191981A | 申请公布日期 | 1998.09.02 |
申请号 | CN98105175.8 | 申请日期 | 1998.02.26 |
申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 俞炳权;李炯宰;李泰衡;李勇雨 |
分类号 | G02B6/30 | 主分类号 | G02B6/30 |
代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 李晓舒 |
主权项 | 1.一种制造光有源器件的方法,所述的光有源器件具有由当波导光信号时需要非线性作用的光波导内芯区域(非线性内芯区域),和不需要非线性作用的光波导内芯区域(线性内芯区域)构成的光波导,该方法包括以下步骤:在基片上形成具有低于波导内芯区域材料的折射率和具有透光性的下覆盖层;在下覆盖层上通过涂覆具有低于下覆盖层材料的折射率的线性光学聚合物形成线性光学聚合物层;在下覆盖层波导要被设置的区域以外的区域形成第一金属层;蚀刻未在其上形成第一金属层的线性光学聚合物层;在具有非线性内芯区域的基片上形成非线性光学聚合物层;除去堆积的高于波导内芯区域的非线性光学聚合物层;除去第一金属层;在除去第一金属层的波导上形成第二金属层;除去非第二金属层区域的线性光学聚合物;和在具有线性光学聚合物的基片上使用具有比波导内芯区域折射率低和具有透光性的材料形成上覆盖层。 | ||
地址 | 韩国京畿道 |