发明名称 COMPOSICION SENSIBLE AL CALOR Y METODO PARA HACER FORMAS DE IMPRESION LITOGRAFICA CON ELLA.
摘要 SE DESCRIBE APLICADO SOBRE UNA BASE LITOGRAFICA UN COMPLEJO DE UNA RESINA FENOLICA INSOLUBLE EN REVELADOR Y UN COMPUESTO QUE FORMA UN COMPLEJO TERMICAMENTE FRANGIBLE CON LA RESINA FENOLICA. ESTE COMPLEJO ES MENOS SOLUBLE EN LA SOLUCION DE REVELADO QUE LA RESINA FENOLICA NO COMPLEJADA. SIN EMBARGO, CUANDO SE CALIENTA ESTE COMPLEJO EN EL SENTIDO DE LA IMAGEN EL COMPLEJO SE DISGREGA, PERMITIENDO ASI QUE LA RESINA FENOLICA NO COMPLEJADA SE DISUELVA EN LA SOLUCION DE REVELADO. DE ESTE MODO, AUMENTA EL DIFERENCIAL DE SOLUBILIDAD ENTRE LAS AREAS CALENTADAS DE LA RESINA FENOLICAS Y LAS AREAS NO CALENTADAS CUANDO SE COMPLEJA LA RESINA FENOLICA. TAMBIEN ESTA PRESENTE EN LA BASE LITOGRAFICA PREFERIBLEMENTE UN MATERIAL CON CAPACIDAD DE ABSORCION DE RADIACION LASER. SE HAN LOCALIZADO MUCHOS COMPUESTOS QUE FORMAN UN COMPLEJO TERMICAMENTE FRANGIBLE CON LA RESINA FENOLICA. EJEMPLOS DE TALES COMPUESTOS SON LOS COMPUESTOS QUINOLINICOS, LOS COMPUESTOS DE BENZOTIAZOL, LOS COMPUESTOS PIRIDINICOS Y LOS COMPUESTOS DE IMIDAZOLINA.
申请公布号 ES2114521(T1) 申请公布日期 1998.06.01
申请号 ES19970919526T 申请日期 1997.04.22
申请人 HORSELL GRAPHIC INDUSTRIES LIMITED 发明人 PARSONS, GARETH, RHODRI;RILEY, DAVID, STEPHEN;HOARE, RICHARD, DAVID;MONK, ALAN, STANLEY, VICTOR
分类号 G03F7/004;B41C;B41C1/10;B41M5/36;B41N1/14;C08K5/07;C08K5/16;C08L101/00;G03F7/039;(IPC1-7):B41C1/10 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
地址