| 发明名称 |
METHOD FOR FORMING INSULATION FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE INSULATION FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1050699(A) |
申请公布日期 |
1998.02.20 |
| 申请号 |
JP19960198689 |
申请日期 |
1996.07.29 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
GOSHIMA SHIGEO;TAKATANI SHINICHIRO;TAKAZAWA HIROYUKI;KIKAWA TAKESHI |
| 分类号 |
H01L21/316;H01L21/318;(IPC1-7):H01L21/316 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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