清洗晶片用的设备

摘要

能始终依垂直取向处理晶片的半导体晶片擦洗与干燥设备。此设备使晶片大致沿垂向从设备的入口段运送到此设备的干燥机中。晶片置于盒内进入此设备并依其在此盒内码放秩序运出到另一盒内而保持各晶片的一致性。此设备构造成使晶片在其中处理的格子与外界隔绝而此格子内用来处理晶片的部件全为氟化塑料制备。这些处理部件的致动装置则位于另一格子内。可起动和停动晶片处理格子中的冲洗装置来一一冲洗晶片而无需在冲洗管路中采用阀门。

主权项

1.用于自动清洗半导体晶片的设备，此设备包括：晶片入口段，用来接收一批保持于垂直取向的晶片；晶片第一转运装置，用来一次从晶片入口段转运一块晶片且不改变这块晶片的垂直取向；离心干燥机，构造成从上述晶片第一转运装置接收所述的一块晶片并保持此晶片的垂直取向，此离心干燥机可绕大致通过由此晶片第一转运装置所接收的上述这块晶片中心的轴线转动，而其转速则选定成能从此晶片上将晶片上的液体甩离；晶片第二转运装置，用来将上述一块晶片呈垂直取向从离心干燥机转运出去；晶片出口段，用来从上述晶片第二转运装置接收依垂直取向的所述的一块晶片。