Optisches Breitbandverkleinerungssystem mit angepassten refraktiven Materialien,申请号DE19936006428T-传众专利搜索

首页产品黄页商标征信

会员服务注册登录

法人/股东/高管

发明名称	Optisches Breitbandverkleinerungssystem mit angepassten refraktiven Materialien
摘要
申请公布号	DE69306428(T2)	申请公布日期	1997.04.03
申请号	DE19936006428T	申请日期	1993.01.25
申请人	SVG LITHOGRAPHY SYSTEMS, INC., WILTON, CONN., US	发明人	WILLIAMSON, DAVID, MALVERN WELLS, WORCS. WR14 4HD, GB;DESAI, SATISH, BETHEL, CONNECTICUT 06801, US
分类号	G02B13/24;G02B13/14;G02B17/08;G02B27/28;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/30;(IPC1-7):G02B17/08	主分类号	G02B13/24
代理机构		代理人
主权项
地址

您可能感兴趣的专利

Socle démontable pour éléments verticaux de mobilier urbain

Élimination de cellules cibles par des cellules t cytotoxiques circulantes spécifiques du virus à l'aide de complexes comprenant des molécules du cmh de classe i

含钴互连及其制造方法;COBALT BASED INTERCONNECTS AND METHODS OF FABRICATION THEREOF

中介层用基板及其制造方法

半导体装置及半导体晶圆;SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR WAFER

半导体装置

离散式电路元件之微型封装;MINIATURE PACKAGING FOR DISCRETE CIRCUIT COMPONENTS

基板收纳容器

非挥发性记忆体之结构及制造方法;STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD OF A NON-VOLTAILE MEMORY

晶片切割设备;WAFER CUTTING EQUIPMENT

晶圆支撑及校准设备;WAFER SUPPORT AND ALIGNMENT APPARATUS

具有自电晶体长度去耦合之闸极矽长度的接触几何结构;CONTACT GEOMETRY HAVING A GATE SILICON LENGTH DECOUPLED FROM A TRANSISTOR LENGTH

薄膜电晶体元件从矽至矽锗的转换;CONVERSION OF THIN TRANSISTOR ELEMENTS FROM SILICON TO SILICON GERMANIUM

具有预蚀刻暂态调节之蚀刻过程;ETCH PROCESS WITH PRE-ETCH TRANSIENT CONDITIONING

晶圆之加工方法（二）

研磨装置及研磨方法;POLISHING APPARATUS AND POLISHING METHOD

在透明基板之相对侧上之涂层形成图案的方法及装置;METHOD AND APPARATUS FOR FORMING PATTERNS IN COATINGS ON OPPOSITE SIDES OF A TRANSPARENT SUBSTRATE

批次式沉积薄膜形成装置;BATCH TYPE DEPOSITION FILM FORMING APPARATUS

具有低轴漏泄场的永久磁铁基高效能多轴浸没电子透镜阵列;PERMANENT MAGNET BASED HIGH PERFORMANCE MULTI-AXIS IMMERSION ELECTRON LENS ARRAY WITH LOW AXIAL LEAKAGE FIELD

介电体层及介电体层之制造方法、以及固态电子装置与固态电子装置之制造方法