| 发明名称 |
ELECTRON BEAM EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0934122(A) |
申请公布日期 |
1997.02.07 |
| 申请号 |
JP19950184231 |
申请日期 |
1995.07.20 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
KAWAKAMI KENICHI;DAIKYO YOSHIHISA;OKAWA TATSURO;SAKAMOTO JUICHI;SAKAZAKI TOMOHIRO;SETO ISAMU;TAKIGAWA MASAMI |
| 分类号 |
G03F7/20;G03F7/207;G03F9/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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