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发明名称 Verfahren zum anisotropen Ätzen einer aluminiumhaltigen Schicht und Verwendung einer hierzu geeigneten Ätzgasmischung
摘要
申请公布号 DE4317722(C2) 申请公布日期 1996.12.05
申请号 DE19934317722 申请日期 1993.05.27
申请人 SIEMENS AG, 80333 MUENCHEN, DE 发明人 HAIN, MANFRED, DIPL.-PHYS., 85591 VATERSTETTEN, DE
分类号 C23F4/00;H01L21/3213;H01L21/768;(IPC1-7):C23F4/00;H01L21/306;H01L21/311;H05K3/06 主分类号 C23F4/00
代理机构 代理人
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