| 发明名称 |
Positive working resist compositions and their utility in dry film photoresists |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
HK207596(A) |
申请公布日期 |
1996.11.29 |
| 申请号 |
HK19960002075 |
申请日期 |
1996.11.21 |
| 申请人 |
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY |
发明人 |
RICHARD DOUGLAS BAUER;GWENDYLINE YUAN YU CHEN;WALTER RAYMOND HERTLER;ROBERT CLAYTON WHELAND |
| 分类号 |
C08L33/00;C08L33/04;G03F7/004;G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/039 |
主分类号 |
C08L33/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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