| 主权项 |
1. 一种聚对苯二甲撑沉积装置,包括: 一个汽化室; 经偶合至该汽化室上之一个热解室; 经偶合至该热解室上之一个后-热解室用以接收气 态之聚 对苯二甲撑单体,该后-热解室具有维持在大约22℃ 与大 约28℃间之一温度下的内壁且对于捕集自该热解 室出口之 未经热解之聚对苯二甲撑二聚物分子系有效; 经偶合至后-热解室上之一个沉积室用以接收气态 之聚对 苯二甲撑单体;及 真空设备用以创造负压状况在沉积室内,热解室内 ,后- 热解室内和汽化室内。2. 如申请专利范围第1项之 聚对苯二甲撑沉积装置,另外 包括过滤器设备系经配置在后-热解室与沉积室中 欲予涂 覆之基体间的气态聚对苯二甲撑单体的流程中,该 过滤器 系可操作以便在沉积至基体上前,过滤出聚对苯二 甲撑单 体中之杂质。3. 如申请专利范围第2项之聚对苯二 甲撑沉积装置,其中 该过滤器设备包括由PTFE所构成之一种过滤器材料 。4. 如申请专利范围第2项之聚对苯二甲撑沉积装 置,其中 将过滤器设备定位在接邻该沉积室的一个入口之 沉积室中 。5. 如申请专利范围第4项之聚对苯二甲撑沉积装 置,其中 该过滤器设备包括经截留在两个互补环间之一种 过滤(器) 材料,此两互补环系被紧固至沉积室的一个内部表 面上。6. 如申请专利范围第2项之聚对苯二甲撑沉 积装置,另外 包括用以加热该过滤器设备之设备。7. 一种聚对 苯二甲撑沉积装置,包括: 一个汽化室; 经偶合至该汽化室上之一个热解室; 经偶合至该热解室上之一个沉积室用以接收气态 之聚对苯 二甲撑单体; 过滤器设备系经配置在后-热解室与沉积室中欲予 涂覆之 基体间的气态聚对苯二甲撑单体的流程中,该过滤 器系可 操作以便在沉积至基体上前,过滤出聚对苯二甲撑 单体中 之杂质; 真空设备用以创造负压状况在沉积室内,热解室内 和汽化 室内。8. 如申请专利范围第7项之聚对苯二甲撑沉 积装置,其中 该过滤器设备包括由PTFE所构成之一种过滤器材料 。9. 如申请专利范围第7项之聚对苯二甲撑沉积装 置,其中 将过滤器设备定位在接邻该沉积室的一个入口之 沉积室中 。10. 如申请专利范围第9项之聚对苯二甲撑沉积 装置,其 中该过滤器设备包括经截留在两个互补环间之一 种过滤( 器)材料,此两个互补环系被紧固至沉积室的一个 内部表 面上。11. 如申请专利范围第7项之聚对苯二甲撑 沉积装置,另 外包括用以加热该过滤器设备之设备。图示简单 说明: 图1是本发明的聚对苯二甲撑蒸汽沉积装置之示意 图; 图2是本发明之聚对苯二甲撑沉积装置之前立面图 ; 图3是另外之前立面图,将沉积室组件与基座相分 离并将 一部份的基底部份略去来举例说明本发明之加热 和冷却压 板组合体; 图4是沿着图3之4-4线所取之装置的截面图; 图4A是沿着图4之4A-4A线所取之后热解室之截面图; 图5是汽化室之放大截面图; 图6是沿着图3之6-6线所取之装置的另外截面图; 图7是举例说明压板和各真空汽门之基底的顶视图 ; 图8A是沿着图7之8A-8A线所取之本发明上之石英晶 体厚 度/速率感测器之截面图; 图8B是沿着图7之8B-8B线所取之本发明的压板和静 电夹 紧装置之放大截面图; 图9是本发明之石英晶体厚度/速率感测器控制系 统之示 意图; 图10是沿着图3之10-10线所取之沉积室本体之截面 图; 及 图11是该沉积室本体之底视图举例说明真空岐管 之各开口 |
