发明名称 Silicide compatible CMOS process with a differential oxide implant mask
摘要
申请公布号 EP0405293(B1) 申请公布日期 1996.08.21
申请号 EP19900111514 申请日期 1990.06.19
申请人 NATIONAL SEMICONDUCTOR CORPORATION 发明人 LIOU, TIAN-I;TENG, CHIH-SIEH
分类号 H01L29/78;H01L21/265;H01L21/8238;H01L27/092;(IPC1-7):H01L21/82 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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