| 主权项 |
1. 一种备制用于干涉系统之光纤的方法,包含下列 步骤 : (a)选择具有非对称护层之单模,极化保存纤维; (b)引入已知特性光至光纤内以察光纤内之光; (c)将纤维选择部份引入能蚀刻去掉护层之介质内; 及 (d)在感测到引入光纤之光与介质间之光交作后,将 纤维 撤出介质。2. 根据申请专利范围第1项之方法更包 含提供纤维一端之 表面以反射纤维导引之光的步骤。3. 根据申请专 利范围第1项之方法,其中步骤b)更包含引 入已知特性光至第二光纤内的步骤。4. 根据申请 专利范围第3项之方法其中步骤b)更包含: 重叠两光纤之光以发展干涉区;及 观察该区以侦测因引入光纤中之光与介质间的光 交作所造 成之任何相位改变。5. 根据申请专利范围第1项之 方法,其中步骤d)自介质撤 出纤维系从初始感测光交作延迟一段时间足以达 到自纤维 核心一侧将护层作最佳蚀刻而不影响到实质之核 心本身。6. 根据申请专利范围第1项之方法更包含 包装光纤之该选 择部份于包装内的步骤,包装内含已知折射率材料 。7. 一种光纤干涉系统包含: (a) 单模,极化保存纤维具有护层,护层之选择部份 经 去除以曝露出至少核心一侧; (b) 装置包装该选择部份之材料具有已知之折射率 ; (c) 第二单模,极化保存纤维及装置可将已知特性 光引 入光纤内; (d) 装置位于光纤端部,将光自端部反射回至光的 引入 装置; (e) 装置可将两光纤内之反射光重叠,发展干涉区; 及 (f) 装置用以观察该区以侦测该材料折射率之任何 变化 。8. 根据申请专利范围第7项之光纤干涉系统,其 中在该选 择部份周围形成包装装置之材料经选择为使包装 装置环境 的物理变化会造成该材料折射率之变化。9. 根据 申请专利范围第8项之光纤干涉系统,其中光波长 选择在包装装置材料之反常散布光谱区内。10. 根 据申请专利范围第8项之光纤干涉系统,其中光波 长选择对应形成包装装置材料波长之最大化学吸 收变化率 。图示简单说明: 图1为本发明光纤干涉量测器图示。 图2为蚀刻光纤放大图及其间光波之关系图。 图3为图2蚀刻部份之细部图示。 图4为本发明感测器实施例截面。 图5a为本发明较佳光纤透视图,其厚聚合物缓冲或 保护模 未示出。 图5b为用来修改图5a光纤之蚀刻技术透视。 图5c为图5a光纤蚀刻程序后之透视。 图6为本发明利用多重波长之光纤干涉量测器。 图7为放大之蚀刻光纤及其间之两光波。 图8为本发明利用多重波长之光纤干涉量测。 图9为本发明光纤干涉感测器采用之光源隔离装置 。 图10为本发明光纤干涉感测器采用另外之光源隔 离装置。 图11为本发明光纤干涉感测器所采用又另一光源 隔离装置 。 图12a为发展干涉场之光纤系统可测定相位变化方 向。 图12b为发展另一干涉场之光纤系统可测定相位变 化方向 。 图13为本发明之光纤干涉感测器采用Mach-Zehnder与 |
