首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
SEMICONDUCTOR MEMORY INTEGRATED CIRCUIT DEVICE
摘要
申请公布号
JPH07111088(A)
申请公布日期
1995.04.25
申请号
JP19930253865
申请日期
1993.10.12
申请人
NEC CORP
发明人
OKAMURA HITOSHI
分类号
G11C11/418;G11C11/412;(IPC1-7):G11C11/418
主分类号
G11C11/418
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
静电卡盘、玻璃基板处理方法及其玻璃基板;ELECTROSTATIC CHUCK, GLASS SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND GLASS SUBSTRATE
静电夹盘及供电系统;ELECTROSTATIC CHUCK AND POWER SUPPLY SYSTEM
对位装置及基板处理装置;ALIGNMENT DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
半导体晶圆的金属污染评价方法以及半导体晶圆的制造方法;METHOD FOR EVALUATING METAL POLLUTION OF SEMICONDUCTOR WAFER AND METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR WAFER
导线键合机和校准导线键合机的方法;A WIRE BONDER AND METHOD OF CALIBRATING A WIRE BONDER
用于针对晶圆上晶片组件的暂时性晶圆模制的方法;METHODS FOR TEMPORARY WAFER MOLDING FOR CHIP-ON-WAFER ASSEMBLY
半导体装置和其之制造方法;SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
密封体的制造方法、密封体制造用框状间隔件、密封体及电器
倒装晶片构件之树脂密封方法
基板洗净装置及基板洗净方法;SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND SUBSTRATE CLEANING METHOD
基板处理方法、程式、电脑记忆媒体及基板处理系统
在电浆增强型基板处理室中的偏斜消除与控制;SKEW ELIMINATION AND CONTROL IN A PLASMA ENHANCED SUBSTRATE PROCESSING CHAMBER
FREIN DE STATIONNEMENT AUTOMATIQUE AVEC UN PROCEDE DE RESSERRAGE OPTIMISE
REDUCTEUR A ROUE ORBITALE
PERFECTIONNEMENT POUR SAC A DOS
AME THERMOLELECTRIQUE, STRUCTURE THERMOELECTRIQUE COMPRENANT LADITE AME, SON PROCEDE DE REALISATION ET SES UTILISATIONS
MATERIAU COMPOSITE HYBRIDE THERMOELECTRIQUE
DISPOSITIF DE PORTAGE A MOYENS DE COMPENSATION
Protection and presentation box for storing e.g. fragile objects, has rod whose driving mechanism in high position is activated when lid is in closed position and another driving mechanism in low position is controlled by interface
BOITE A OUTILS ET MODULES D'OUTIL
