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发明名称 APPARATUS AND METHOD FOR IMPROVING UNIFORMITY OF SPUTTERING RATIO IN SPUTTERING APPARATUS
摘要
申请公布号 JPH0790568(A) 申请公布日期 1995.04.04
申请号 JP19940105639 申请日期 1994.05.19
申请人 APPLIED MATERIALS INC 发明人 SHIN SHIEN GUO
分类号 C23C14/34;H01J37/34;H01L21/203;(IPC1-7):C23C14/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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