| 发明名称 |
PARTICLE SOURCE, ESPECIALLY PARTICLE SOURCE FOR REACTIVE ION ETCHING METHOD AND PLASMA CVD METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH05217535(A) |
申请公布日期 |
1993.08.27 |
| 申请号 |
JP19920153186 |
申请日期 |
1992.06.12 |
| 申请人 |
LEYBOLD AG |
发明人 |
RAINAA GEEGENBUARUTO;YOTSUHEN RITSUTAA |
| 分类号 |
C23C16/50;C23C16/511;H01J27/18;H01J37/08;H01J37/32;H01L21/302;H01L21/3065 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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