发明名称 胜化合物,其制法及其制药组成物
摘要 一种如下式之化合物:□式中R1为低级烷基,芳基,芳胺基,啶基,咯基,唑并啶基,基,或如下式之基:□式中一线及虚线符号为单键或双键,X为CH或N,及Z为O,S或NH,各自可有适当取代基,R2为氢或低级烷基;R3为羟基除外的适当取代基;R4为低级烷基,其可带有适当取代基,及R5为芳(低级)烷基,其可有适当取代基,或啶基(低级)烷基,或R4与R5联结在一起,生成苯-稠合低级烷撑;R7为氢或适当取代基;A 为D-Trp除外的胺基酸残基,其可有适当取代基;及Y 为键,低级烷撑或低级烯撑,及其药物可接受性盐。
申请公布号 TW184917 申请公布日期 1992.06.01
申请号 TW080108359 申请日期 1991.10.23
申请人 藤泽药品工业股份有限公司 发明人 三宅宏;松尾昌昭;萩原大二郎
分类号 A61K37/02;C07K5/06 主分类号 A61K37/02
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项
地址 日本