| 发明名称 |
Method of depositing thin films consisting mainly of carbon |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US4996079(A) |
申请公布日期 |
1991.02.26 |
| 申请号 |
US19890311845 |
申请日期 |
1989.02.17 |
| 申请人 |
SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. |
发明人 |
ITOH, KENJI |
| 分类号 |
C01B31/04;C01B31/06;C23C16/26;C23C16/27;C23C16/30;C23C16/517;C30B25/10;C30B29/04 |
主分类号 |
C01B31/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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