| 发明名称 | 磁膜以及使用这种磁膜的磁头 | ||
| 摘要 | 一种磁膜和使用这种磁膜(5，9)的磁头。这种磁膜是通过将一种或多种元素填加到由铁构成或以铁为主要成分的磁膜中形成的，这些元素选自可填隙地溶于铁的元素：硼、氮、碳和磷，元素的含量是5～20％原子比。 | ||
| 申请公布号 | CN1006107B | 申请公布日期 | 1989.12.13 |
| 申请号 | CN87103907.9 | 申请日期 | 1987.05.30 |
| 申请人 | 株式会社日立制作所 | 发明人 | 小林俊雄;大友茂一;中谷亮一;熊坂登行 |
| 分类号 | H01F10/10;G11B5/31 | 主分类号 | H01F10/10 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人 | 李勇 |
| 主权项 | 1.一种磁膜，以铁或由铁作为主要成分组成，包括从可填隙地溶于铁的硼、氮、碳和磷中选出的一种或多种元素，其特征在于，上述一种或多种元素是以可填隙地可溶方式包含在上述磁膜中的。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||