发明名称 PARTICULES FINES DE POLYORGANOSILSESQUIOXANE ET PROCEDE DE PRODUCTION DE CES PARTICULES
摘要 <P>Particules fines de polyorganosilsesquioxane ayant une taille moyenne de particule de 0,01 mum ou plus, et contenant des groupes hydrocarbonés liés aux atomes de silicium qui ne sont pas tous seulement des groupes méthyles, mais qui peuvent être sélectionnés dans un grand intervalle de groupes organiques. Les particules fines de polyorganosilsesquioxane ont une forme sphérique et une taille uniforme ainsi qu'un diamètre faible. Procédé pour la production des particules fines de polyorganosilsesquioxane comprenant l'hydrolyse d'un trialcoxysilane représenté par la formule :R**1Si(OR**2)3 </P><P>dans laquelle R**1 représente un groupe hydrocarboné monovalent substitué ou non substitué, et R**2 représente un groupe alkyle substitué ou non substitué, en présence d'un acide organique pour former un organosilanetriol de formule :R**1Si(OH)3 ou un condensat partiel de ce dernier et ensuite la polycondensation de l'organosilanetriol ou de son condensat partiel dans une solution aqueuse d'alcali ou dans une solution mixte de la solution aqueuse d'alcali et d'un solvant organique.</P>
申请公布号 FR2627773(A1) 申请公布日期 1989.09.01
申请号 FR19890002442 申请日期 1989.02.24
申请人 TOSHIBA SILICONE CO LTD 发明人 HIROSHI KIMURA ET KENJI SAITO;SAITO KENJI
分类号 C08G77/04;C08G77/06;C08G77/32;C08J3/12;C08L67/02 主分类号 C08G77/04
代理机构 代理人
主权项
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