| 发明名称 | 用于电解槽的隔膜构件 | ||
| 摘要 | 一个用于电解槽的隔膜构件，包括一隔膜材料和一加强材料的组合，此加强材料只加在该隔膜材料的垫圈承载面处。当把此隔膜构件用于例如压滤器式电解槽中时，垫圈承载面处的隔膜结构的损坏可减至最小。 | ||
| 申请公布号 | CN85108122A | 申请公布日期 | 1986.07.16 |
| 申请号 | CN85108122 | 申请日期 | 1985.11.04 |
| 申请人 | 陶氏化学公司 | 发明人 | 理查德·尼尔·比瓦 |
| 分类号 | C25B13/02;C25B1/46;C25B9/00 | 主分类号 | C25B13/02 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人 | 陈景峻 |
| 主权项 | 1、一种离子交换隔膜构件，它包括至少一层适合于用作离子交换隔膜的第一种材料以及至少一层适合于加强该隔膜的第二种材料，所述加强层紧固在环绕该隔膜周边的至少一个垫圈承载上。 | ||
| 地址 | 美国密执安州48640米德兰 | ||