X-ray resists production process.

摘要

Verfahren zur Herstellung von Röntgenresists mit Atzmustern unter Verwendung von an sich bekannten Trägern, die mit einem Film aus Copolymeren des Methacrylnitrils mit der Methacrylsäure beschichtet sind, wobei a) zur Beschichtung des Trägers ein Copolymerisat des Methacrylnitrils und der Methacrylsäure mit einem Molekulargewicht unter 700 000 verwendet wird, b) eine thermische Behandlung vor der Bestrahlung mit Röntgenstrahlung unterhalb 150 °C bis zur Bildung eines lösungsmittelfreien, unvernetzten Films durchgeführt wird, c) nach der Bestrahlung mit Röntgenstrahlung bei Temperaturen im Bereich 140° - 170°C während 15 bis 30 Minuten getempert wird und d) anschließend mit einem Lösungsmittelsystem L gebildet aus Wasser und/oder einem organischen Lösungsmittel, das Sauerstoff in Form einer Hydroxy- und/oder einer Ethergruppe und/oder einer Estergruppe enthält, entwickelt wird.