| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME AND PRODUCTION OF PLATING RESIST |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0635192(A) |
申请公布日期 |
1994.02.10 |
| 申请号 |
JP19920188053 |
申请日期 |
1992.07.15 |
| 申请人 |
HITACHI CHEM CO LTD |
发明人 |
TSUCHIKAWA SHINJI;ISHIMARU TOSHIAKI;OTA FUMIHIKO;NOJIRI TAKESHI |
| 分类号 |
G03F7/027;G03F7/033;G03F7/038;H05K3/18;(IPC1-7):G03F7/033 |
主分类号 |
G03F7/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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