发明名称 COMPOSITION DE POLYMERE PHOTOSENSIBLE ET SON APPLICATION EN LITHOGRAPHIE
摘要 <P>La présente invention est relative à la photographie. </P><P>La composition photosensible suivant l'invention comprend un polymere dont les motifs contiennent un atome d'azote quaternaire et un groupe à double liaison éthylénique et un initiateur comprenant un dérivé de métal carbonyle ou un métallocène ainsi qu'un dérivé du trihalogénométhane. </P><P>Application à la préparation de plaques présensibilisées utiles, après exposition et développement a l'eau, à l'obtention de planches d'impression lithographique.</P>
申请公布号 FR2427635(A1) 申请公布日期 1979.12.28
申请号 FR19790013759 申请日期 1979.05.30
申请人 EASTMAN KODAK CY 发明人
分类号 C08F2/50;C08F8/44;G03F7/029;G03F7/038;(IPC1-7):G03C1/70;B41M1/06;C08F20/06 主分类号 C08F2/50
代理机构 代理人
主权项
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