发明名称 DISPOSITIF A FAISCEAU IONIQUE
摘要 <P>Dispositif à faisceau ionique dans lequel un faisceau d'ions d'excitation, émis par une source d'ions gazeuse, est appliqué à un matériau solide qui constitue une source d'ions solides et dans lequel les ions du matériau solide, émis par ce matériau solide sous l'effet de l'application du faisceau des ions d'excitation, sont extraits par une électrode d'extraction et appliqués sur un échantillon.</P>
申请公布号 FR2371772(A1) 申请公布日期 1978.06.16
申请号 FR19770033365 申请日期 1977.11.07
申请人 HITACHI LTD 发明人
分类号 G01N23/225;G01Q70/14;H01J27/20;H01J37/08;H01J37/256;H01J37/317;H01J49/26;H01L21/265;H05H7/08;(IPC1-7):H01J37/08;H01J37/28 主分类号 G01N23/225
代理机构 代理人
主权项
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