| 发明名称 |
DEPOSITION REACTOR FOR DEPOSITING A FILM OF A MATERIAL FROM A GASEOUS-PHASE ONTO A SUBSTRATE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
YU16471(A) |
申请公布日期 |
1977.12.31 |
| 申请号 |
YU19710000164 |
申请日期 |
1971.01.25 |
| 申请人 |
RCA CORP |
发明人 |
STRATER KURT;HALL WILLIAM BERNARD;MICHALICK EUGENE MICHAEL;STEVER WILIAM CHARLES;MICHAEL MICHALICK EUGENE;MICHALICK EUGENE MICHAEL;CHARLES STEVER WILIAM;STEVER WILIAM CHARLES |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C16/455;H01L21/205;(IPC1-7):B29F3/00;B29F3/01 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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