发明名称 |
基板的制造方法、液晶显示装置及其制造方法、电子设备 |
摘要 |
本发明要解决的问题在于,栅极布线部及源极布线部的布线厚度无法仅在开关元件部的性能不发生劣化的范围内增厚,无法充分减小布线部的电阻值,液晶显示装置的耗电量大。提供一种基板的制法、液晶显示装置及其制法、电子设备,其中与在开关元件部(30)上形成的栅电极部(41)的电极厚度d3相比,被Al膜(14)厚膜化的栅极布线部(40)的布线厚度d4更厚。另外,与源电极部(43)及漏电极部(44)的电极厚度d5相比,被Al膜(17)厚膜化的源极布线部(42)的布线厚度d6更厚。由于布线厚度d4、d6更厚,栅极布线部(40)及源极布线部(42)的截面面积增大。所以可以减小栅极布线部(40)及源极布线部(42)的电阻值。由此,可以实现液晶显示装置(100)的低耗电化。 |
申请公布号 |
CN101354509A |
申请公布日期 |
2009.01.28 |
申请号 |
CN200810130020.5 |
申请日期 |
2008.07.24 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
传田敦 |
分类号 |
G02F1/1362(2006.01);H01L27/12(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L21/60(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/1362(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
李贵亮 |
主权项 |
1.一种基板的制造方法,包括:第一膜覆盖工序,利用干式成膜法在基板上覆盖含有第一金属元素的第一膜;光致抗蚀剂膜覆盖工序,在所述第一膜上覆盖光致抗蚀剂膜;半色调曝光工序,在所述光致抗蚀剂膜上形成曝光部、与所述曝光部相接并具有大致平行的带状的平面形状的一对非曝光部以及作为所述非曝光部的内侧区域与所述非曝光部的外侧区域的一部分的半曝光部;显影工序,除去所述曝光部和所述半曝光部中被曝光的上层部;电极部以及布线部形成工序,对通过所述曝光部的除去而露出的所述第一膜进行蚀刻,形成电极部以及布线部;围堰形成工序,除去已除掉所述上层部的所述半曝光部而露出所述电极部以及所述布线部,并且由一对所述非曝光部形成一对围堰;处理液涂敷工序,向由一对所述围堰夹持的所述布线部和一对所述围堰形成的凹部,利用液滴喷出法涂敷含有第二金属元素的处理液;和第二膜形成工序,通过对已涂敷的所述处理液进行硬化,从而在所述布线部上形成含有所述第二金属元素的第二膜,并将所述布线部厚膜化。 |
地址 |
日本东京 |