| 发明名称 | 离形层、应用其的可挠式装置及可挠式基板的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种离形层、应用其的可挠式装置、及应用其的可挠式基板的制造方法。离形层包括一包含氢氧基(hydroxyl group)的硅氧烷类材料，离形层的第一表面上氢氧基的数量小于相对的第二表面上氢氧基的数量。 | ||
| 申请公布号 | CN103943543B | 申请公布日期 | 2016.08.24 |
| 申请号 | CN201310070744.6 | 申请日期 | 2013.03.06 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 蔡宝鸣;江良佑 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/683(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陈小雯 |
| 主权项 | 一种离形层，包括一包含氢氧基(hydroxyl group)的硅氧烷类材料，该离形层的一第一表面上氢氧基的数量小于相对的一第二表面上氢氧基的数量。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹县 | ||