| 发明名称 |
A METHOD FOR MANUFACTURING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING PAD POLISHING LAYERS HAVING REDUCED GAS INCLUSION DEFECTS |
| 摘要 |
비말 동반 기체 개재 결함을 최소화하는 화학 기계 연마 패드 연마층을 제조하기 위한 방법을 제공한다. 또한, 비말 동반 기체 개재 결함을 최소화하는, 화학 기계 연마 패드 연마층의 제조에 사용하기 위한 혼합 헤드 조립체를 제공한다. |
| 申请公布号 |
KR101669283(B1) |
申请公布日期 |
2016.10.25 |
| 申请号 |
KR20100037191 |
申请日期 |
2010.04.22 |
| 申请人 |
롬 앤드 하스 일렉트로닉 머티리얼스 씨엠피 홀딩스, 인코포레이티드 |
发明人 |
에스벤쉐이드 존;가이거 앤드류 엠;리버스 폴;노벰버 사무엘 제이;사케티 폴 제이;트레이시 조나단;베르바로 데이비드;왓킨스 마이클 이 |
| 分类号 |
H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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