发明名称 Verfahren zur chemischen Gasphaseninfiltration von wenigstens einem refraktären Stoff
摘要 Verfahren zur chemischen Gasphaseninfiltration von wenigstens einem refraktären Stoff, bei welchem Verfahren in einer Reaktionszone eine poröse Struktur mit einem wenigstens einen gasförmigen Precursor enthaltenden Gas beströmt wird, wobei bei gegebener Temperatur in der Reaktionszone der Partialdruck des wenigstens einen gasförmigen Precursors und die Verweilzeit τ des Gases in der Reaktionszone derart eingestellt werden, dass in der porösen Struktur eine Abscheidungsreaktion des Precursors im Partialdruckbereich der Sättigungsadsorption erfolgt, wobei Sättigungsadsorption bedeutet, dass bei einer Erhöhung des Partialdruckes des gasförmigen Precursors die Abscheidungsgeschwindigkeit konstant bleibt oder unwesentlich erhöht wird, und die Umsetzung des wenigstens einen gasförmigen Precursors in jedem Stadium der Infiltration so begrenzt wird, dass beim Durchströmen der Reaktionszone nicht mehr als 50%, vorzugsweise 10% bis 25%, des im Gas zugeführten, eine feste Phase bildenden, wenigstens einen gasförmigen Precursors als feste Phase in der porösen Struktur abgeschieden werden, und die Beströmung der porösen Struktur in einem in Vertikalrichtung zwischen einer Eintrittsseite und einer Austrittsseite der Reaktionszone angeordneten Stapel aus übereinanderliegenden ringförmigen Schichten durch vertikale Umfangsspalte (A, B) jeweils konstanter Spaltweite aus einem radial äußeren Umfangsspalt (A), der radial innen von den äußeren Umfangsrändern der Schichten begrenzt wird und radial außen von einer Reaktorwand umgrenzt wird, und einem radial inneren Umfangsspalt (B), der radial außen von den inneren Umfangsrändern der Schichten umgrenzt wird und radial innen von einem Reaktorkern begrenzt wird, wie auch durch zwischen den Schichten quer zur Vertikalrichtung verlaufende Querspalte (C) erfolgt, die zu den Umfangsspalten (A, B) hin offen sind, wobei die Umfangsspalte eine Spaltweite haben, die jeweils in Umfangsrichtung des Stapels konstant ist, und das Verhältnis der Spaltweite des radial inneren Umfangsspaltes (B) zu der Spaltweite des radial äußeren Umfangsspaltes (A) größer 1 und kleiner gleich 20 ist und das Verhältnis der Spaltweite jedes der Querspalte (C) zu der Spaltweite des radial äußeren Umfangsspaltes von 0,25 bis 12 beträgt, wobei der radial äußere Umfangsspalt ...
申请公布号 DE102012100176(B4) 申请公布日期 2016.11.17
申请号 DE201210100176 申请日期 2012.01.10
申请人 CVT GmbH & Co. KG 发明人 Hegermann, Rainer;Goetz, Philipp
分类号 C23C16/44;C23C16/04;C23C16/22;C23C16/26;C23C16/32;C23C16/34 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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