发明名称 Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung eines Photoresists
摘要
申请公布号 DE69713232(D1) 申请公布日期 2002.07.18
申请号 DE19976013232 申请日期 1997.09.12
申请人 TOKYO ELECTRON LTD., TOKIO/TOKYO 发明人 KIBA, YUKIO;SEMBA, NORIO;HASEBE, KEIZO
分类号 B05D1/00;B05D3/00;G03F7/16;G03F7/30;(IPC1-7):G03F7/16 主分类号 B05D1/00
代理机构 代理人
主权项
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