| 摘要 |
【課題】通例適用されるバランスマス配置を原因とする振動に対し低影響であるリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置（３００）は、ベースフレーム（５０）と、放射ビームを調整し、ベースフレームにより支持される照明システム（３１０）と、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能であるパターニングデバイス（３５０）を支持する支持部（３２０）と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板の目標部分に投影する投影システム（３４０）と、基板テーブルを位置決めし、ベースフレームにより支持される位置決め装置と、ベースフレームに及ぼされるトルクによって生じる振動を検知するよう構成されるセンサ（３９５）と、検知された振動に応答して該振動を少なくとも部分的に減衰させるように照明システム又はベースフレームに力を及ぼすよう構成されるアクチュエータと、を含む。【選択図】図３ |
