| 发明名称 | 电化学处理设备和处理半导体器件的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种电化学处理设备，其中通过将过滤膜和阳离子交换膜的多层结构放置使得该过滤膜位于衬底侧，将放置在腔体内的衬底和阳极分隔为包括衬底的阴极区域和包括阳极的阳极区域。将含有添加剂的电镀溶液引入在阴极区域，藉此电镀衬底。 | ||
| 申请公布号 | CN101144177A | 申请公布日期 | 2008.03.19 |
| 申请号 | CN200710139984.1 | 申请日期 | 2007.08.07 |
| 申请人 | 恩益禧电子股份有限公司 | 发明人 | 黑川哲也;有田幸司;野田香织 |
| 分类号 | C25D17/00(2006.01);C25D7/12(2006.01);H01L21/288(2006.01) | 主分类号 | C25D17/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 孙志湧;陆锦华 |
| 主权项 | 1.一种电化学处理设备，包括：腔体；和多层结构，提供该多层结构以把腔体分隔成阳极区域和阴极区域，所述结构包括面对所述阴极区域的过滤膜和面对所述阳极区域的阳离子交换膜。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||