ＥＵＶ照射下で膨張しないＥＵＶリソグラフィ用ミラーブランク

摘要

本発明は、統計的分布から逸脱するゼロ交差温度のプロファイルを有する、ＥＵＶミラー用基板に関する。更に本発明は、前記基板におけるゼロ交差温度のプロファイルが前記ミラーの動作温度に適合させられているＥＵＶミラー用基板の製造法及び当該基板の使用並びにかかる基板を使用したリソグラフィ法に関する。