发明名称 具有振动线电极之放电加工方法与装置
摘要
申请公布号 TW023756 申请公布日期 1978.10.01
申请号 TW06610849 申请日期 1977.05.12
申请人 井上杰巴克研究所股份有限公司 发明人 井上洁
分类号 B23P5/00 主分类号 B23P5/00
代理机构 代理人 陈世雄 台北巿大安区一○六六一敦化南路六九五号八楼
主权项 1﹒一种导电工作物之放电加工方法其中:一行线电极与该工作物系相对设置,且依该行线电之轴向使两者成为侧向设置并使两者之间形成一加工间隙,一加工液供应至该间隙内,及供应一系列电脉冲横过该工作物与行线电极以在该间隙内产生放电加工而移走工作物之物质,该改良包括:传送一振动至该行线电极之频率系不低于100千赫者。2﹒如请求专利部份第1项之改良,其中,该频率系在1与50千赫间之范围者。3﹒如请求专利部份第2项之改良,其中,振动之幅高为在1至50微米(micron)间之范围者。4﹒如请求专利部份第3项之改良,其中,振动之幅高为在1至5微米间之范围者。5﹒如请求专利部份第1项之改良,其中,该行线电极在一对引导元件间予以伸拉及输送且在一只引导元件之邻近处传送振动至该行线电极者。6﹒如请求专利部份第5项之改良,其中,该引导元件之一只以冷剂予以冷却者。7﹒如请求专利部份第1项之改良,其中,该振动之平面系控制成可保持与该工作物之行线电极之裁切方向相同方向者。8﹒如请求专利部份第1项之改良,其中,该振动之一参数系可依该加工间隙内之加工情形而变更者。9﹒如请求专利部份第1项之改良,其中,该加工液为一种电阻系数在5x10^2及5x10^4ohm─cm间之水者。10﹒如请求专利部份第1项之改良,其中,该振动之参数可周期性地变更者。
地址 日本