发明名称 粉体供给装置
摘要 本发明系适用于机10g/h程度以下之极微少量之粉体,以一定浓度定量供应之粉体供给装置。其构成系如图1,在其外周面形成粉体充填用周槽10之旋转体2,和面对该旋转体2之周槽10开口并保持一定间隔配设之小细管7,和将粉体压入于该旋转体2周槽10之设施,和由该旋转体表面将多余的粉体去除,并将压入粉体填充周槽9的粉体整平的刮板5,和为使填充在周槽10之粉体跟气体一起从周槽10送出于小细管7内,而在容纳旋转体的空间与小细管之间,可产生压力差之设施,以使气体流入于小细管内。为其特征。
申请公布号 TW206199 申请公布日期 1993.05.21
申请号 TW081108662 申请日期 1992.10.30
申请人 日清工程股份有限公司;日清制粉股份有限公司 发明人 村田博;宫川君夫;森山秀男;筱田荣司
分类号 B65G53/04 主分类号 B65G53/04
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1﹒一种粉体供给装置,系具备有粉体贮存部之容器(1),和置于该容器内设有周槽(10)的旋转体(2,2'),和可将粉体贮存部之粉体连续填充于上述旋转体的上述周槽之设施(3),和小细管末端开口面对于上述旋转体的上述周槽以送出粉体之小细管(7),和设置在上述粉体填充设施与小细管之间的拨除设施(5),和使气体可从上述容器内流入于小细管内,而在其间加以压加差的设施(8)为其特征者。2﹒如申请专利范围第1项所述之粉体供给装置,其中该有周槽旋转体,系为该周槽在其外周面之有槽滚筒者。3﹒如申请专利范围第1项所述之粉体供给装置,其中该有周槽旋转体,系为该环周槽在其外缘附近之水平旋转圆盘者。4﹒如申请专利范围第1项所述之粉体供给装置,其中将粉体充填于旋转体为粉体充填用槽之设施,系为与该旋转体相接转动,且向周方向有连续凹凸条周面之滚筒者。5﹒一种粉体供给装置,系具备有粉体贮在部之容器,和设置在上容器内可连续回转的无端皮带,和可将粉体贮存部之粉体连续推压附于该无端皮带外表面的设施,和小细管末端开口面对于上述无端皮带外表面以送出粉体之小细管,和设于上述粉体推压附着设施与小细管之间,可将皮带外表面之粉体保留一定厚度而将多余的拨除之刮除设施,和使气体可从上述容器内流入于小细管内,而在其间加以压力差之设﹒施为其特征者。6﹒如申请专利范围第1项至第5项之任一项粉体供给装置中,为使气体从容器内流入于小细管内,在其间加以压力差之设施,系为连接于容器之加压气体应之设施。7﹒如申请专利范围第1项至第5项所述之任一项粉体供给装置中,为使气体从容器内流入于小细管内,在其间加压力差之设施,系为小细管流通气体之下流侧设置喷射装置者。8﹒一种粉体供给装置,系具备经常将粉体大致保持一定量,及同一方向与气体同时搬送的小细管,和设在小细管流通气体之下流侧,将此小细管分岐成两路后再合并为一条,形成分岐合流部,而其分岐之一条小细管与另一条小细管之长度有所不同者。图示简单说明图l:本发明第l实施例装置之构成概要断面图。图2:图l之A-A线箭头方向断面图。图3:实施例1粉体供给装置所供应粉体之粉尘浓度计输出图。图4:本发明第2实施例装置之构成概要断面图。图5:本发明第3实施例装置之构成概要断面图。图6:设置本发明减低脉动机构之第4实施例装置构成概要概略图。图7:同实施例4,设置减低脉动机构之纷体供给装置所供应粉体之粉尘浓度计输出图。图8:图8之(a)、(b)为本发明第5实施例装置之构成概要断面图。图9:本发明第6实施例装置之构成概要断面图。图10:本发明第7实施例装置之构成概要断面图。
地址 日本