| 主权项 |
1.一种光蚀式软质印面成型机构,系令光蚀刻印机之光源位于内部上方,该光源采一光罩内设灯组,并另配合设有一罩座,且机壳一侧形成一供罩座置放之入口,另,罩座系由一具透明区之框座枢连一盖板所组成,其为供可光蚀之软质印章体配合相贴一为透光材质而印制有灰阶字样之样本一并放置,及使其以软质印章体之刻印面与样本朝透明区相贴,而藉盖板盖合夹定软质印章体与样本;藉之,将该内置软质印章体与样本之罩座以透明区朝上面向光罩而由入口推入放置机壳内,以于经过光照后,该软质印章体相对于样本藉灰阶字样之遮光,其表面于不同程度之非遮光处得被对应地光蚀凹陷而显出相应字样,致予造出浮凸字样印面者。2.如申请专利范围第1项所述之光蚀式软质印面成型机构,其中,该光蚀刻印机相对罩座置放之入口内端处得设有一触动开关连控光照之电源,以供罩座推入可相抵触动开关者。3.如申请专利范围第1项所述之光蚀式软质印面成型机构,其中,该触动开关之旁侧处得设具簧件,供罩座推抵缓冲者。4.如申请专利范围第1项所述之光蚀式软质印面成型机构,其中,该光蚀刻印机具光源之上部得为一可掀翻之面板形态,而令内设灯组之光罩固设于该面板之内侧面者。5.如申请专利范围第4项所述之光蚀式软质印面成型机构,其中,相对该可掀翻面板内侧面之光罩,其机壳内部得设置一平台,而供直接将软质印章体与样本以刻印面朝上放置者。图式简单说明:第一图系本创作之结构示意图。第二图系本创作之使用操作示意图(一)。第三图系本创作之使用操作示意图(二)。第四图系本创作之使用操作示意图(三)。第五图系本创作之衍生装置示意图。第六图系本创作之变化结构示意图。 |
