| 摘要 |
<p>【課題】プラズマ処理の均一性を図ると共に、放電集中等の異常放電を低減させるプラズマ製造装置を提供する。【解決手段】基板２０にプラズマ処理を行う処理室１０と、処理室１０の内部に配置され、基板２０を載置する接地電極１２と、接地電極１２と対向する電極板１６、電極板１６と面接触し、一部が処理室１０の内部から外部に露出する電極本体１４を有し、外部に露出する部分で高周波電源２４に接続される高周波電極１８と、処理室内部１０において、高周波電極１８の処理室１０への取り付け部から、高周波電極１８の側面を囲むように配置された、表面粗さＲａが２０μｍ以上の金属溶射被膜３１を含むシールド部材３０ａ，３０ｃとを備える。【選択図】図１</p> |
