| 发明名称 |
Novel masking technique for depositing gallium arsenide on silicon |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
HK1001332(A1) |
申请公布日期 |
1998.06.12 |
| 申请号 |
HK19980100342 |
申请日期 |
1998.01.15 |
| 申请人 |
INTEL CORPORATION |
发明人 |
WU ALBERT T;SHINJI NOZAKI;THOMAS GEORGE;LEE SANDRA S;MASAYOSHI UMENO |
| 分类号 |
C23C14/04;C23C16/04;H01L21/20;(IPC1-7):C23C;H01L |
主分类号 |
C23C14/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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