| 主权项 |
1﹒一种制备下式染料在染色条件下安定之-改 良 体之方法其具有如附图1所示X射线绕射花样, 具有在下述掠射角(Cu─K^a辐射)之特 有反射及下述相对强度之数据:[]2﹒94 ﹒55﹒24─5﹒418﹒9510﹒561 1﹒8812﹒7313﹒7相对强度24,7 6357﹒465﹒435﹒237﹒7100 59﹒339﹒5此法系﹒(a)在60─13 0℃温度下将下述a改良体之含水悬浮液加热, 或(b)在60─90℃温度于分散剂存在下使 下述─改良体细细分散于水悬浮液内。上式染 料在染色条件下安定之─改良体具有在下述掠 射角(Cu─K^辐射)及下述相对强度数据 之X射线绕射花样:()2﹒93﹒64﹒7 67﹒758﹒812﹒1312﹒72相对强 度42﹒910060﹒530﹒233,33 4﹒31002﹒如请求专利部份第1项a)部 份请求之制法,其中加热系于水溶之有机溶剂内 进行。 3﹒如请求专利部份第1项b)部份请求之制法,其 中细致的分散作用系于阴离子、阳离子或非离子 之界面活性剂存在下于80─100℃温度进行 。 |
