| 主权项 |
1﹒一种照相敏感曝光材质之曝光方法包含:放置照相敏感曝光材质于设定一内环状弧形圆筒且密封于外界光源进入之光的一盒中,其中曝光材质是设在环状弧形圆筒中且与弧形圆筒之一中央纵轴有一均匀的空间;以一镭射产生器产生一镭射光束;在一镭射调制器中调制镭射光束;使调制之镭射光束偏入一准直仪中;导引准直后之镭射光束与中央纵轴平行排列而至一具有两镜面之一可转动镜上,其中各镜面与中央纵轴呈一角度设置;以一光学系统使一反射在一镜面上之镭射光束聚焦;导引聚焦之镭射光束射在一聚焦表面上,被反射及聚焦镭射光束之焦距点在曝光材质之表面上转动;以讯号使曝光材质曝光,以由可转动镜及光学系统而来的镭射光束而在曝光材质上提供点形曝光。2﹒如申请专利范围第1项之方法,更包含导引由准直仪而来的平行排列光束至两镜面之一上,其中两镜面与中央纵轴呈45度之角度设置,而其中两镜面之一与两镜面之另一形成90度之角度。3﹒如申请专利范围第1项之方法,其中由两镜面之一第一镜面而来之一第一照射曝光光束,使弧区间形曝光材质沿一第一部份周围涵盖一180度之角度曝光,而其中由两镜面之一第二镜面而来之一第二照射曝光光束,使弧区间形曝光材质沿一第二周围涵盖一180度之角度曝光,使在第一部份周围上曝光之弧区间形曝光材质是以一固定轨迹距离交错于在第二部份周围上之弧区间形曝光材质。4﹒使照相敏感曝光材质曝光之一种方法包含放置照相敏感曝光材质于设定一内环状弧形圆筒且密封于外界光源进入之光的一盒中,其中曝光材质是设在环状弧形圆筒中且与弧形圆筒之一中央纵轴有一均匀的空间;以一镭射产生器产生一镭射光央;在一镭射调制器中调制镭射光束;使调制之镭射光束偏入一准直仪中;导引准直后之镭射光束与中央纵轴平行排列而至一转动光束散射,偏向及聚焦结构以导引一第一散射,反射及聚焦镭射光束射至一聚焦表面,其中第一散射,反射及聚焦镭射光束之一焦距点在曝光材质之表面上转动,以导引一第二散射,反射及聚焦镭射光束射至聚焦表面上,其中第二散射,反射及聚焦镭射光束之一焦距点在曝光材质之表面上转动;以讯号使曝光材质曝光材质曝光,以第一散射,反射及聚焦镭射光束及第二散射,反射及聚焦镭射光束而在曝光材质上提供点形曝光。5﹒如申请专利范围第4项之方法,其中转动光束散射,偏向及聚焦结构是由两可转动镜面提供,其中两镜面各与中央纵轴呈一角度设置,而其中准直后之镭射光束被反射为一第一反射镭射光束及一第二反射镭射光束,而其中第一反射镭射光束是以一第一光学系统聚焦,而其中第二反射镭射光束是以一第二光学系统聚焦。6﹒如申请专利范围第4项之方法,其中转动光束散射,偏向及聚焦结构是由一具有抛物线表面之,一第一可转动镜面及一其有抛物线表面之一第二可转动镜面所提供,其中第一镜面是设成使准直后之镭射光束之一第一部份被反射为一第一反射镭射光束,而其中第二抛物线镜面是设成使准直后之镭射光束之一第二部份被反射为一第二反射为射光束,而其中第一反射镭射光束是根据在曝光材质上之抛物线表面而聚焦,而其中第二反射镭射光束是根据在曝光材质上之抛物线表面而聚焦。7﹒如申请专利范围第4项之方法,其中转动光束散射,偏向及聚焦结构是由一可转动半渗透镜所提供,其中渗透镜之一面是与中央纵轴呈一角度设置,而其中准直后之镭射光束被半渗透镜反射为一第一反射镭射光束,其中通过半渗透镜之一篇射光束被一平面镜反射回至半渗透镜,而半渗透镜反射一部份此回反射之镭射光束为相反于第一反射镭射光束之方向而形成一第二反射镭射光束,而其中第一反射镭射光束是以一第一光学系统聚焦,而其中第二反射镭射光束是以一第二光学系统聚焦。8﹒使照相敏感曝光材质(1)在一密封于外界光源之进入之一盒(2)中曝光之一方法,其中曝光材质(1)是设在与中央纵轴(4)有一均匀空间的一环状弧形圆筒(3)中,其中一镭射产生器(5)产生一镭射光束(6),其中镭射光束(6)经由镭射调制器(7)被调制并偏入一准直仪(8)中,且在离开准直仪(8)后被导引至一可转动镜(9)上,其中可转动镜(9)与中央纵轴(4)呈一角度设置,而其中来自可转动镜之镭射光束(6)使讯号曝光而在曝光材质(1)上提供点形曝光,其中由准直仪(8)离开与中央纵轴(41)平行排列之光束(10)被偏向与中央纵轴(4)呈一角度(11)设置之至少两镜面(12a,12b)上,其中反射至镜面(12a,12b)上之平行光束(10)被再聚焦于一相关之光学系统(13)中并被导引至聚焦平面(14)上,而反射平行光束之焦距点在曝光材质(1)之表面(1a)上转动。9﹒如申请专利范围第8项之方法,其中准直仪(8)之平行排列光束(10)被导引至镜面(12a,12b)上,其与中央纵轴(4)呈45度之角度(11)设置,而其中镜面(12a,12b)互相形成90度之角度。10﹒如申请专利范围第8项之方法,其中第一镜面(12a)之一第一照射曝光光束(15)使弧区间形曝光材质(1)沿一第一部份周围涵盖180度之角度曝光,而其中第二镜面(12b)之一第二照射曝光光束(16)也使弧区间形曝光材质(1)沿一第,周围涵盖180度之角度曝光,而使在第一部份周围上之弧区间形曝光材质(1)以一固定轨迹距离交错曝光于第二部份同闭上之弧区间形曝光材质。11﹒一光组成装置包含一盒具有一内空间设定一圆筒之一环状弧及圆筒之一中央纵轴,使照相敏感曝光材质可位于待以一镭射光束曝光之该内空间中,而其中盒为密封于外界光;一滑动器可在中央纵轴之方向滑动;一镭射产生器以圆筒支撑,其中镭射产生器之光学轴与中央纵轴重叠;一镭射调制器设在由镭射产生器产生之一镭射光束之一路径中,以调制产生之镭射光束;一准直仪设在调制后镭射光束之一路径中,以准直镭射光束束为平行光束;一具有两镜面之可转动镜设在准直后镭射光束之一路径中,以形成一第一反射镭射光束及形成一第二反射镭射光束;一第一聚焦光学系统平行排列于第一反射镭射光束之一反射方向并设在与中央纵轴一预定照射距离处,且可在曝光材质之表面调整一焦距点以形成一第一照射曝光光束而以点形讯号之形态被导引且聚焦在曝光材质上,以在曝光材质上产生曝光点;一第二聚焦光学系统平行排列于第二反射镭射光束之一反射方向并设在与中央纵轴一预定照射距杂处,且可在曝光材质之表面调整一焦距点以形成一第二照射曝光光束而以镭形讯号之形态被导引且聚焦在曝光材质上,以在曝光材质上产生曝光点。12﹒如申请专利范围第11项之装置,其中两镜面各与中央纵轴形成45度之角度,而其中两镜面绕着周围以180度之角度交错。13﹒如申请专利范围第11项之装置,更包含一支撑,其中可转动镜设有两镜面且连接于支撑,而其中支撑形成外环以容纳第一聚焦光学系统及第二聚焦光学系统,各以一照射方向聚焦,而其中第一聚焦光学系统及第二聚焦光学系统是设在与中央纵轴相等的距离。14﹒如申请专利范围第13项之装置,其中支撑之外环,及第一聚焦光学系统与第二聚焦光学系统可分别作互相滑动及调整,而不在平行于中央纵轴之一方向中之一测微计区域中闪动。一光组成装置包含一盒具有一内空间设定一圆筒之一环状弧及圆筒之一中央纵轴,使照相敏感曝光材质可位于待以一镭射光束曝光之该内空间中,而其中盒是密封于外界光;一滑动器可在中央纵轴之方向滑动;一镭射产生器以圆筒支撑,其中镭射产生器之光学轴与中央纵轴重叠;一镭射调制器设在由镭射产生器产生之一镭射光束之一路径中,以调制产生之镭射光束;一准直仪设在调制后镭射光束之一路径中,以准直镭射光束为平行光束;一转动光束散射,反射及聚焦工具以形成一第一照明曝光光束以点形讯号之形态被导引并聚焦在曝光材质上而在曝光材质上产生曝光点,且形成一第二照射曝光光束以点形讯号之形态被导引并聚焦在曝光材质上而在曝光材质上产生曝光点。16﹒如申请专利范围第15项之装置,其中转动光束散射,反射及聚焦工具设有一具有两镜面之可转动镜设在准直后镭射光束之一路径中,以形成一第一反射镭射光束及形成一第二反射镭射光束;一第一聚焦光学系统与第一反射镭射光束之一反射方向平行排列并设在与中央纵轴一预定照射距离处,可在曝光材质之一表面调整一聚焦点;及一第二聚焦光学系统与第二反射镭射光束之一反射方向平行排列并设在与中央纵轴一预定照射距离处,可在曝光材质之一表面调整一聚焦点。17﹒如申请专利范围第15项之装置,其中转动光束散射,反射及聚焦工具设有一具有两镜面之一可转动镜,各有一抛物线表面且各设在准直后镭射光束之一路径中,以形成一第一反射及聚焦镭射光束并形成一第二反射及聚焦镭射光束,以分别调整两镜面至曝光材质之一表面上之一相关焦距点。18﹒如申请专利范围第15项之装置,其中转动光束放射,反射及聚焦工具设有一可转动半渗透镜设在准直后镭射光束之一路径中,以形成一第一反射镭射光束及形成一传导镭射光束;一平面镜以相反于在可转动半渗透镜被反射之传导镭射光束之方向反射传导镭射光束,而形成一第二反射镭射光束;一第一聚焦光学系统与第一反射镭射光束之一反射方向平行排列并设在与中央纵轴一预定照射距离处,可在曝光材质之一表面调整一聚焦点;及一第二聚焦光学系统与第二反射镭射光束之一反射方向平行排列并设在与中央纵轴一预定照射距离处,可在曝光材质之一表面调整一聚焦点。19﹒一光组成装置,包括一光组成装置之一环状弧形且密封于光之一内表面,而其中一照相敏感曝光材质(1)以一镭射光束(6)在该内空间中曝光,其中一滑动器(7)可在中央纵轴(4)之方向滑动,支撑一镭射产生器(5),其中镭射产生器(5)之光学轴(18)与中央纵轴(4)重叠,其中产生之镭射光束(6)在一镭射调制器(7)中调制,而其中镭射光束(6)通过一准直仪(8)而至一可转动镜(9)上,其中一照射曝光光束被导引且聚焦在曝光材质(1)上,以点形讯号之形态由可转动镜(9)射出以作曝光点,其中一具有至少两镜面(12a,12b)之可转动镜设在准直仪(8)后之光束路径(19)中,其中一聚焦光学系统(13)与相关镜面(12a,12b)之反射光束(20)之反射方向平行排列而设在与中央纵轴(4)一预定照射距离(21)处,而其中各情形之聚焦点(22)可在曝光材质(1)之表两高度(1a)作调整。20﹒如申请专利范围第19项之装置,其中各镜面(12a,12b)与中央纵轴(4形成45度之角度(11),而其中两镜面(12a,12b)沿周围以180度之角度交错。21﹒如申请专利范围第19项之装置,其中可转动镜(9)设有数镜面(12a,12b),被连接至一支撑(23),其中支撑(23)形成外环(24,25)以容纳照射聚焦光学系统(13),而其中聚焦光学系统与中央纵轴(4)以相等距离设置。22﹒如申请专利范围第21项之装置,其中支撑(23)之外环(24,25)及聚焦光学系统可分别互相滑动及调整,而在与中央纵轴平行之方向中之一测微计区域中不会闪动。图示简单说明图1为盒之一内部透视图;图2为一环状弧形盒有一插入之曝光材质之一轴向纵区间图;图3为在一滑动器上之一透视图,一镭射光束之路径由一镭射产生器开始,通过一镭射调制器,一准直仪,及一双镜;图4为通过一插入曝光材质之涩形弧形盒之一轴向纵区域图,采用一半渗透板以分散不同于图2实施例之另一实施例中之镭射光束;图5为须似于图2通过一插入曝光材质之环形弧形盒之一动向纵区域图,但采用两抛物线镜同时作为光束分散及准直之用。 |
