| 发明名称 | 立体线圈、反应腔室及半导体加工设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种立体线圈、反应腔室及半导体加工设备，其包括输入端和输出端，输入端和输出端在立体线圈的径向上相对设置，以形成防止输入端和输出端打火的安全距离。本发明提供的立体线圈，其可以在保证立体线圈的输入端与输出端之间具有安全距离的前提下，减少立体线圈对等离子体的分布均匀性以及介质桶的结构均匀性的影响，从而可以改善晶片的刻蚀形貌和刻蚀均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN106611643A | 申请公布日期 | 2017.05.03 |
| 申请号 | CN201510699171.2 | 申请日期 | 2015.10.23 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 侯宁 |
| 分类号 | H01F5/00(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01F5/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 彭瑞欣;张天舒 |
| 主权项 | 一种立体线圈，包括输入端和输出端，其特征在于，所述输入端和输出端在所述立体线圈的径向上相对设置，以形成防止所述输入端和输出端打火的安全距离。 | ||
| 地址 | 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 | ||