| 发明名称 | 一种连续生产高附着力镀铝膜的装置及方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种连续生产高附着力镀铝膜的装置及方法，属于柔性包装基材薄膜技术领域。本发明的装置由放卷辊(1)、张力辊(2)、溅射室(3)、镀膜室(4)、收卷辊(5)以及辅助的水路、电路、气路系统和真空系统构成。本发明的方法包括柔性基材经放卷辊(1)和收卷辊(5)装置驱动柔性基材匀速走膜、柔性基材在经过溅射室(3)时溅射沉积缓冲层和沉积有缓冲层的柔性基材经过镀膜室(4)时沉积铝膜三个主要步骤。本发明公开的装置和方法能够连续操作，溅射缓冲层和镀铝过程在同一个系统中完成，在操作过程中柔性基材无需取出，有利于工业化连续生产，大幅提高生产效率。 | ||
| 申请公布号 | CN106521427A | 申请公布日期 | 2017.03.22 |
| 申请号 | CN201611039640.9 | 申请日期 | 2016.11.22 |
| 申请人 | 北京印刷学院 | 发明人 | 张海宝;陈强;袁燕;王正铎;桑利军 |
| 分类号 | C23C14/26(2006.01)I;C23C14/30(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;C23C14/20(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京蓝智辉煌知识产权代理事务所(普通合伙) 11345 | 代理人 | 陈红;杜秀科 |
| 主权项 | 一种连续生产高附着力镀铝膜的装置，其特征在于，由放卷辊(1)、张力辊(2)、溅射室(3)、镀膜室(4)、收卷辊(5)以及辅助水路、电路、气路系统和真空系统构成；张力辊(2a)设置在放卷辊(1)和溅射室(3)之间，张力辊(2b)设置在镀膜室(4)和收卷辊(5)之间；溅射室(3)内包含磁控溅射靶材和用于支撑柔性基材的辊筒；镀膜室(4)内包含供铝系统和镀膜卷绕冷鼓，镀膜方式采用悬浮或鼓式镀膜；溅射室(3)和镀膜室(4)采用圆形或方形真空室。 | ||
| 地址 | 102600 北京市大兴区兴华大街（二段）1号 | ||