| 发明名称 | 清洗装置、清洗待清洗工件的方法以及清洗IC衬底传送滚轮的清洗液及方法 | ||
| 摘要 | 本发明有关于一种清洗装置、清洗待清洗工件的方法以及清洗IC衬底传送滚轮的清洗液及方法。所述清洗装置包含第一槽、第二槽、第三槽及第四槽，其中所述第一槽包含第一槽体及至少一个第一超声波震荡器，所述第二槽包含第二槽体及至少一个高压喷洗设备，所述第三槽包含第三槽体及至少一个第三超声波震荡器，所述第四槽包含第四槽体及至少一个第四超声波震荡器。 | ||
| 申请公布号 | CN106513375A | 申请公布日期 | 2017.03.22 |
| 申请号 | CN201510681637.6 | 申请日期 | 2015.10.20 |
| 申请人 | 日月光半导体制造股份有限公司 | 发明人 | 钟旻华;杨秉丰;邱咏达;王建仁;李秋雯;魏致高 |
| 分类号 | B08B3/12(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;C11D7/60(2006.01)I;C11D7/18(2006.01)I;C11D7/08(2006.01)I | 主分类号 | B08B3/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 林斯凯 |
| 主权项 | 一种清洗装置，其包含：第一槽，其包括第一槽体及至少一个第一超声波震荡器；第二槽，其包括第二槽体及至少一个高压喷洗设备；第三槽，其包括第三槽体及至少一个第三超声波震荡器；及第四槽，其包括第四槽体及至少一个第四超声波震荡器。 | ||
| 地址 | 中国台湾高雄市楠梓加工区经三路26号 | ||