发明名称 半導体装置、該半導体装置を有する表示装置
摘要 【課題】酸化物半導体を有するトランジスタにおいて、電気特性の変動を抑制すると共に、信頼性を向上させる。【解決手段】第1の絶縁膜上の酸化物半導体膜と、酸化物半導体膜上の第2の絶縁膜と、第2の絶縁膜上のゲート電極と、第2の絶縁膜の側面に接する金属酸化膜と、酸化物半導体膜、ゲート電極、及び金属酸化膜上の第3の絶縁膜と、を有し、酸化物半導体膜は、ゲート電極と重なるチャネル領域と、第3の絶縁膜と接するソース領域と、第3の絶縁膜と接するドレイン領域と、を有し、ソース領域及びドレイン領域は、水素、ホウ素、炭素、窒素、フッ素、リン、硫黄、塩素、チタン、または希ガスの1以上を有する。【選択図】図1
申请公布号 JP2017034251(A) 申请公布日期 2017.02.09
申请号 JP20160149223 申请日期 2016.07.29
申请人 株式会社半導体エネルギー研究所 发明人 山崎 舜平;肥塚 純一;岡崎 健一;神長 正美;井口 貴弘;後藤 尚人
分类号 H01L29/786;G09F9/30;H01L21/336;H01L21/8242;H01L27/108 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人
主权项
地址