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发明名称
パーティクル測定用マスク
摘要
【課題】EUV露光装置内でマスクに付着するパーティクルをモニタすることができるパーティクル測定用マスクを提供する。【解決手段】実施形態によれば、第1マスク基板と、支持部材と、パーティクル測定手段と、を備えるパーティクル測定用マスクが提供される。前記支持部材は、マスクステージと接触する側の前記第1マスク基板の第1主面と対向する第2主面の周縁部に配置される。前記パーティクル測定手段は、前記支持部材の側面に配置され、前記第2主面近傍でのパーティクルの有無を測定する。【選択図】図1
申请公布号
JP2017021249(A)
申请公布日期
2017.01.26
申请号
JP20150139924
申请日期
2015.07.13
申请人
株式会社東芝
发明人
鈴木 勝;水野 央之
分类号
G03F1/44
主分类号
G03F1/44
代理机构
代理人
主权项
地址
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