发明名称 SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
摘要 본 발명은 절연 재료층에 글래스 크로스나 부직포 등의 보강섬유를 포함하지 않는, 금속 박막 배선층의 정밀화, 금속 비어의 소경화, 및 층간 두께의 박형화를 가능하게 하는 반도체장치를 제공하는 것. 보강섬유를 포함하지 않는 절연재료(114b)에 의해서 밀봉된 1개 내지 복수의 반도체 소자(107a, 107b)와, 복수의 금속 박막 배선층(102)과, 상기 금속 박막 배선층간, 및, 상기 반도체 소자의 전극(106)과 금속 박막 배선층(102)을 전기적으로 접속하는 금속 비어(109)를 포함하는 절연 재료층(101, 108)과, 상기 절연 재료층의 한쪽의 주면측에 배치되고, 상기 절연 재료층(101, 108)의 휨을 상쇄하여, 반도체장치의 휨을 저감하는 휨 조정층(123)을 구비하는 반도체장치를 제공하는 것이다.
申请公布号 KR20170004882(A) 申请公布日期 2017.01.11
申请号 KR20160082516 申请日期 2016.06.30
申请人 가부시키가이샤 제이디바이스 发明人 이시도 키미노리;타마카와 미치아키;이와사키 도시히로
分类号 H01L23/00;H01L21/768;H01L23/14 主分类号 H01L23/00
代理机构 代理人
主权项
地址