发明名称 SILICON WAFER AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
摘要 이 제조 방법은, 액셉터로서 붕소를 함유하는 실리콘 단결정을 슬라이스하여, 미열처리 실리콘 웨이퍼를 얻는 공정과, 미열처리 실리콘 웨이퍼에 대해서, 붕소 농도를 구하는 공정을 포함하고, 미열처리 실리콘 웨이퍼에 대해서, 산소 도너 농도를 구하는 공정과, 붕소 농도를 구하는 공정에서 구해진 붕소 농도 및, 산소 도너 농도를 구하는 공정에서 구해진 산소 도너 농도에 기초하여, 미열처리 실리콘 웨이퍼에 대하여, 300℃ 이상의 온도에서의 열처리를 실시할지 여부를 판단한다. 이에 의해, 웨이퍼상에 편재하는 LPD가 저감된 웨이퍼가 얻어진다.
申请公布号 KR20170005107(A) 申请公布日期 2017.01.11
申请号 KR20167035181 申请日期 2015.04.10
申请人 가부시키가이샤 사무코 发明人 구도 사토시;나카무라 코우조우;무라나카 토시유키;마츠다 슈헤이;김 태기;히라키 케이이치로
分类号 H01L21/02;C30B29/06;C30B33/02;H01L21/26;H01L21/324;H01L21/78 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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