发明名称 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに、電子デバイスの製造方法 |
摘要 |
An actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a compound (A) which generates acid by being irradiated with actinic rays or radiation where, when relative light absorbance is &egr;r using triphenyl sulfonium nonaphlate as a reference and relative quantum efficiency is &phgr;r using triphenyl sulfonium nonaphlate as a reference, the relative light absorbance &egr;r is 0.4 to 0.8 and &egr;r×&phgr;r is 0.5 to 1.0. |
申请公布号 |
JP6059983(B2) |
申请公布日期 |
2017.01.11 |
申请号 |
JP20120288967 |
申请日期 |
2012.12.28 |
申请人 |
富士フイルム株式会社 |
发明人 |
小島 雅史;渋谷 明規;後藤 研由;片岡 祥平;越島 康介 |
分类号 |
G03F7/004;C07D217/08;C07D279/12;C07D327/06;C07D333/08;C07D333/76;C07D335/02;C09K3/00;G03F7/038;G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/004 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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